名词
COT：coater(涂胶）
EXP：exposure（曝光）
DEV：developer（显影）
REG：registration 、overlay （套刻）
CD:critical dimension （关键尺寸）
INSP:inspection （光学显微镜目检）
RDA:realtime defect analysis （即时缺陷分析）
图片发自简书App
Photo process and metrology and defect basic relationship
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