行业 碳化硅

碳化硅器件的优势

根据CASA,Mouser,从公开报价来看,1200V SiC SBD与同类Si器件的差距约4.5倍。根据CASA调研,1200V SiC SBD实际成交价与Si器件价差已缩小至 2-2.5 倍之间,已经达到了甜蜜点。

1、轻量化,效率提升;在400V电压平台下,SiC能够比IGBT器件拥有2-4%的效率提升,而在750V电压平台下其提升幅度则可增大至3.5%-8%。

2、加快充电速度;极氪001 400V 平台,充电效率:10%-80% SOC充电时间为30分钟;充电5分钟,NEDC续航里程可增加120公里。

碳化硅产业链

碳化硅功率器件的制备过程包含了:SiC粉末合成、单晶生长、晶片切磨抛、外延(镀膜)、前道工艺(芯片制备)、后道封装。产业链分为:上游衬底→芯片→分立器件→模块。衬底通常起支撑作用,外延是器件所需的特定薄膜,器件结构即利用光刻、刻蚀等工序加工出具有一定电路图形的拓扑结构。

碳化硅衬底的产业链

衬底 占 SiC 器件成本的 47%,外延成本占 23%,前段占 19%,设计占 6%。

碳化硅衬底制备过程主要存在以下难点:一是对温度和压力的控制要求高,其生长温度在2300℃以上;二是长晶速度慢,7 天的时间大约可生长 2cm 碳化硅晶棒;三是晶型要求高、良率低,只有少数几种晶体结构的单晶型碳化硅才可作为半导体材料;四是切割磨损高,由于碳化硅的硬度极大,在对其进行切割时加工难度较高且磨损多。

衬底当中主要分两类,一类是高绝缘、高纯度半绝缘型的衬底,这种主要用在5G、工业;一类是N型导电型衬底,主要是车用,碳化硅的器件都是基于N型导电型的衬底在后续加工把它给制作出来。

分立器件:基于传统igbt器件的积累,SiC分立器件基于芯片做常规化固定化的的封装即可,可以用在充电桩里,作为快充应用。车内的OBC、DC/DC等也是基于分立器件封装的。

模块:多个芯片以定制化设计进行封装。例如ST给特斯拉model做单管封装,每个里面封了两个芯片,用24个并联,一共48个芯片,封成了一个模块,做在了特斯拉的model3里面;比亚迪汉也是自己做的模块形式。一定数量芯片封装成为模块,一般不是用充电桩或者是车载充电器里面,一般用在电驱动的逆变器里。

碳化硅和氮化镓同样都是优质的材料,但碳化硅的热导率是氮化镓热导率的约3倍,具有更强的导热能力,器件寿命更长,可靠性更高,系统所需的散热系统更小。而氮化镓的生产工艺更复杂,相比碳化硅难度更高。因此,第三代半导体目前普遍采用碳化硅作为衬底材料,在高压和高可靠性领域选择碳化硅外延,在高频领域选择氮化镓外延。

由于碳化硅具有较高的禁带宽度,碳化硅功率器件可承受较高的电压和功率,其器件体积可变得更小,约为硅基器件的1/10;同样由于碳化硅较高的禁带宽度,碳化硅器件的电阻将变得更低,约为硅基器件的1/100;此外,在相同的电压和转换频率下,碳化硅器件的能量损失也更小。

全球 碳化硅衬底 产业目前是美国一家独大,约占60%的份额,全球SiC产量大部分来自于美国的Cree、Ⅱ-Ⅵ,罗姆,日立。其中,Gree 的市场份额约为 45%;中国企业起步较晚,中国企业市占率约10%,主要集中在 4英寸和 6英寸的领域。

产业链中游的外延材料包括SiC外延设备以及外延片,SiC外延片对SIC器件的性能起到了关键性作用。全球SiC外延设备市场被德国的 Axitron、意大利的 LPE以及日本的 TEL和 Nuflare四大龙头企业垄断,CR4约为 100%,

2019年,SiC 外延片出货量为 790 万片,预计 2025 年达到 2130 万片,GAGR 为 18%。

SiC功率器件的生产过程包括设计、制造和封装测试,对于稳定性要求较高,因此国产厂商切入较为缓慢,主要以 IDM为主,少量为纯设计企业。根据2020年统计数据,美国的CREE和日本的Rohm占据了全球碳化硅功率器件市场的主要份额,市占率分别是 27%和 22%。

CREE 预估 2024年 400 万片。 

Rohm 预估 2024年 160 万片,市占 30%。 

国内 2021 年 20 多条产线,30 多万片 6 寸产能。

一些Tier 1的大厂,如博世、德国大陆等,这些Tier 1厂商都纷纷推出了电驱动模块,且部分已经量产落地,凭借自身在机械制造领域的深厚经验,在电机、减速器领域的优势较为明显。

成本 

目前 6 寸导电型衬底片的市场零售价约 1000 美元/片, 目前 4、6 寸片价格是硅的 60 倍以上,但是由于高频、高压的性能,可以降低对无源器件的使用,这同时能节省系统成本,碳化硅的系统成本目前是硅的 2-8 倍。

结合国际技术路线对成本考量,到 2025年有望下降至 500 美元以下,硅基和 sic 基的成本差距会在 2 倍内,一些高电压大电流的功率器件会被碳化硅替代和渗透。

Wolfspeed ( Cree)汽车中应用

Wolfspeed 宣布与通用达成了SiC供应协议。通用汽车将参与Wolfspeed 供应保证计划 (WS AoSP),旨在为电动汽车生产提供国内、可持续和可扩展的材料。

Wolfspeed 已经在多个行业达成了总额超过 13 亿美元的多年长期材料协议,凭借总额超过 150 亿美元的器件管道(pipeline),以及比之前的设施计划大 30 倍的产能增加。Wolfspeed正在推进多个产业从Si到SiC的重要转型。

Wolfspeed这个名字是Cree最近修改的,Wolfspeed 的名字“既体现了狼的高贵品质——领导力、智慧和耐力——以及速度,其特点是公司创新和运营的速度……”。Cree这几年陆续剥离了三分之二的业务,将重心放在了SiC技术和生产上。

特斯拉Model 3上所使用的器件全部更换为SiC后,平均 2辆汽车就需要消耗一片 6英寸SiC晶圆。特斯拉一家消耗 50万片SiC晶圆。全球SiC晶圆的年产能才约为 40-60万片。

国产SiC厂商崭露头角

产能规划 

中车时代:2016年12月,北汽新能源与 中车时代 签署战略协议,重点围绕IGBT模块、碳化硅等技术进行合作。目前中车时代电气域建有6英寸SiC(碳化硅)的产业化基地,据《湖南日报》报道,中车时代电气拥有目前国际SiC(碳化硅)芯片生产线的最高标准。

比亚迪半导体:目前使用 CREE,2022 年开始使用,车规产品;

三安集成:2020年9月29日,三安集成 与 金龙新能源签署战略协议,共同推进碳化硅功率器件在新能源客车电机控制器、辅驱控制器的样机试制以及批量应用。2020年6月23日,三安光电宣布总投资160亿元的湖南三安半导体基地一期项目正式点亮投产,将打造国内首条、全球第三条碳化硅垂直整合产业链。该产线可月产3万片6英寸碳化硅晶圆。2021年11月开始,月产达到 3000 片。 

露笑科技:碳化硅项目从 2020 年 11 月份破土开工建设,2021 年 3月份一期厂房结顶,5 月份公辅设备开始安装调试,6 月份部分设备开始进场安装。随着衬底加工设备、清洗设备和测试设备的逐步到位及加工工艺优化,2021年9月 实现 6 英寸导电型碳化硅衬底片的小批量生产。当前6寸片CREE报价 900多美金,实际市场价格 1100-1200 多美金/片,露笑100 台炉子量产后成本有望在 350 - 400美金/片。

精进电动:发布了车用碳化硅控制器,并透露获得了大众 TRATON的批量订单;其自主研发的碳化硅(SiC)控制器具有高开关频率,高效率,高功率密度等优点。

欣锐科技:公司公告,公司生产的车载电源大部分都使用SiC器件。也做大功率充电这块,主要是PBU和DCBC这块,

英搏尔:是国内少数具备新能源汽车动力系统自主研发、全工艺生产能力的领先企业,可以为车企提供包括驱动总成、电源总成,以及驱动电机、电机控制器、充电机等动力域核心模块产品。公司产品已实现从A00级、A级、B级、MPV、SUV等全系乘用车型量产配套,单车配套产品价值量也有效提升,

斯达和比亚迪主要做碳化硅模块的封装,未来可能会做芯片。中车和三安可以做样件、工业级产品,车规级量产的还没有。衬底,国内天科、天岳、三安,4寸可以量产,6寸小批量做。

400V 和800V 电压平台情况

400V 和 800V 电压平台是针对整个新能源车整个来讲,不只和电池相关,跟电驱动也密切相关的。SiC对于400V下的性能提升不如800V下的大,800V平台下SiC的优势更大,而且800V下SiC价格提升相比较Si不明显。

400V 到 800V 过程中,意味着电芯价格会提高,电驱、OBC价格都会提高(用了SiC和适配800V的电子元器件)。

车载充电系统(OBC):车载蓄电池充电机可将来自电池子系统的 DC 电源转换为主驱动电机的 AC 电源。SiC 器件使得 OBC 的能量损耗减少、热能管理改善。根据 Wolfspeed,OBC 采用碳化硅器件,与硅器件相比,其体积可减少 60%,BOM 成本将降低 15%,在400V 系统相同充电速度下,SiC 充电量翻倍。目前,全球已有超过 20 家汽车厂商在车载充电系统中使用碳化硅功率器件

电源转换系统(车载 DC/DC):车载 DC/DC 变换器可将动力电池输出的高压直流电转换为低压直流电。采用碳化硅器件,设备温度积累减少,加之材料本身高导热率、耐高温的特点,散热设备可以简化,从而减小变压器体积。

非车载充电桩:非车载直流快速充电机可将输入的外部 AC 电源转换为电动车需要的 DC 电源。SiC 的高开关速度保证了快速充电器的充电速度。

光伏 

根据天科合达招股书,碳化硅 MOSFET 或碳化硅 MOSFET 与碳化硅 SBD 结合的功率模块的光伏逆变器,转换效率可从 96%提升至99%以上,能量损耗降低 50%以上,设备循环寿命提升 50 倍。

5G 

半绝缘型碳化硅衬底主要应用于制造氮化镓射频器件。微波射频器件是实现信号发送和接收的基础部件,是无线通讯的核心。

与 2G、3G、4G 相比,5G 的频率较高,其跳跃式的反射特性使其传输距离较短,对功率的要求非常高。碳化硅基氮化镓器件可满足 5G 基站对于高频、高速、高功率的要求,突破了砷化镓和硅基 LDMOS 器件的缺陷。碳化硅基氮化镓射频器件已逐步成为 5G 功率放大器尤其宏基站功率放大器的主流技术路线。

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