12/19号夕会产出计划：3000sh（array:2500 CF:499）
截止目前产出：1381
1、9N9清空4EA，已产出180sh；
2、10.9CL需从2nd ITO Mask(3)向后产出5EA；
3、12.3CQ需从2nd ITO Etch Full（23）向后产出27EA,已产出20sh；
4、12.71A需从2nd ITO Mask（1）向后清空9EA,已产出320sh；
5、31.5TM/32HP 清空828sh；
PS:
1、关注主工艺产品进度，及时沟通加急产出；
2、收尾lot提前查看hold预约提前找对应科室解决；
3、关注下55AW的进度；
8EK
先行 24点AA 6点N+
NQ
先行 24点 GT 6点ANL1完成（不去STK05 skip ）
0B
先行 24点ITO Mask OK 6点ITO Etch完成
main 24点 OS清空 6点 PVX Dep清空
NF
先行 24点完成PVX Dep（OS skip） 6点完成VIA Mask C2
3F
先行 24点VIA Mask进行C2 6点进行ITO Dep
main 24点SD Mask完成 6点 SD OS清空（尾lot OS skip）
C2
先行 24点buffer dep完成 6点delay管控
12点把SD Dep开启（关注PH11 WIP）
3M
先行 6点 confirm 2nd ITO Mask
main 6点 2nd VIA 清空
CQ
main 6点 ITO Mask清空 ITO Etch持续开（WZ01持续支援）
QK
先行 24点完成1st ITO Mask-C1 6点完成1st ITO Etch
main 24点 OS清空 6点ORG Mask 清空
2D
先行 24点完成SD Strip（OS skip） 6点 confirm ORG Mask
main 6点mutil清空
2F
先行 24点完成1st SD 6点进行N+
FM
先行 24点完成VIA Mask C2 6点完成VIA Strip
main 6点清空Act Strip
AW
700sh加急出货 明天早上700sh过VIA Mask （PH17连续开55AW） VIA Mask当前过23个 ITO Mask到了优先做给明天检修留出时间
