ASML (全称： Advanced Semiconductor Material Lithography, 目前该全称已不做为公司标识使用，公司的注册标识为ASML Holding N.V)，中文名称为阿斯麦（中国大陆）、艾司摩尔（中国台湾）。是总部设在荷兰Veldhoven的全球最大的半导体[设备制造商]之一，向全球复杂集成电路生产企业提供领先的综合性关键设备。ASML的股票分别在[阿姆斯特丹]及纽约上市。
2018年6月，[福布斯全球企业2000强]榜单发布，ASML排名第451。
荷兰光刻机巨头ASML是怎么崛起的
光刻巨头如何崛起的
半山腰的时候体能透支
全靠意志在硬扛
突然下面有人喊
哥们 这边有电梯
这个就是光刻巨头ASML的崛起故事
商业是一个漫长的马拉松
先发不一定是优势
也可能意味着严重的
先行者惩罚
光刻机曾经是尼康的天下
ASML是一个名不见经传的小厂
别人吃肉 他喝一点汤
吃不饱但是也饿不着
一直不温不火
知道一次契机的出现
我们知道光刻机是生产芯片的
原理就是用光来雕刻电路图
光越细 刻的东西就越多
芯片就越强
问题是细不下去了怎么办
大家不停的缩短波长
但是到193纳米的时候
出现了瓶颈
想缩短到157纳米
却发现怎么也无法突破
为了攻克难关
几乎整个半导体行业
都参与进来
砸了数10亿美金
无数的人力物力集中在两个方面
一个是尼康的稳健方案
就是还用现在的技术
升级到157纳米的F2激光
一个是联盟的激进方案
直接采用全新光源
跳过157纳米
直接到达10纳米级别
但是商业是要考虑成本的
这两个方案在当时看来
要么成本太高
要么难度太大
所有人都咬牙硬扛的时候
当时的台机电副总经理
林本坚提出了一个
天马行空的想法
能不能既不换光源也不升级
不就是把光变细吗
通过水折射一下不就细了吗
为什么一定要在空气里传播
193纳米/1.4=132纳米
远超157纳米
成本低 难度低 落地性高
设备无需大改
想办法把空气换成水
攻克介质难关就行了
更进一步 如果原理跑的通的话
换成折射率更高的液体
理论还能继续变细
可扩展性也非常的好
这下很多人就不开心了
凭什么我们辛辛苦苦爬山
你按个电梯就上来了
凭什么我们投入海量人力物力
你改革介质就行了
你不要过来搅局
于是林本坚就发表了很多
论文来消除疑虑
论证可行性
尝试说服各个大厂
采用以水为介质的方案
但基本上都被拒绝
毕竟大家没日没夜
投入了这么多
突然要作废了
改走另外一条路
情感上不太可能接受
最后只有ASML同意了
一方面他是个小厂
掉头方便
没有那么多顾虑
巨头们都已经到边山腰了
他还在下面系鞋带
所以就试一下
万一电梯可以用呢
另一方面就是利益驱动
ASML仔细分析过市场需求
发现搞定新技术的话
拿下两个龙头客户概率非常大
也就是说销量不用愁
于是才决定采用
结果就是我们看到的
ASML异军突起
04年新产品研发成功
击败尼康
09年ASML占据70%的份额
而尼康则变成了行业小弟
船越大 内部阻力就越大
临时掉头就越难
自我革命就越不可能
从来没有人规定
赛道必须是一维的
追赶一定得是线性的
看的见的对手是堡垒
看不见的对手是刺客
意识到危险的时候
往往已经就来不及了
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