世界集成电路的发展历史：
1，1947年，晶体管发明。（贝尔实验室：肖克莱）（William B Shockley）
2，1958年，平面工艺技术发明（霍尔尼）；同年，集成电路发明（诺伊斯Robert Noyce；基尔比Jack Kilby）
3，1963年，CMOS技术发明（Complementary Metal Oxide Semi-conductor 互补金属氧化物半导体）
4，1964年，摩尔定律提出。
5，1971年，Intel 推出第一块1Kb DRAM和第一块微处理器4004。
拉晶工艺过程：
1，缩颈。
2，放肩。
3，等径生长。
4，收尾。
