reviewer 1
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- 模拟不含电流和漂移影响
- 在文章开始 mention
- 开始是指,introduction?simulation setup, 说过不含漂移
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- 选择的反常属于系数被证明是合适的,在AUG-U上于实验装置对比(V Rozhansky 2009)
- 阅读建议的文献,发现该文献,为本文采用的适应的输运系数,提供了理论支持
- 在输运系数对应位置添加建议的参考文献
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- line 120,修改鞘层边界和电势降存疑
- 进一步证明:how
- omitted
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- line 224: frication
- 修改
- 详细检查
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- 热力和摩擦力合力,两个力的合力趋近于零,[Iliya 2019 PPCF], 可能是C离子电离后与主等离子体的耦合,这些流直接指向靶板
- 阅读文章,思考如果是流耦合的影响,如何解释。
- 摩擦力和热力合力接近于零的与原因(两个力本身就很小)
Referee 2
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- fig1:二阶零点在靶板下,在计算网格区域外。mesh topology 类似于DDN,如果这样应该有四个靶板(upper and lower),因为内外靶板非常接近,outer 外靶板可能分散可观的热流。SFD是否考虑这个?请表明OMP宽度和与的关系
- 激活二阶零点SOLPS自身的网格生成器无法实现,[Pan O]通过EMC3-Eirene网格,实现了SOLPS模拟激活二阶零点的工作,下一步会考虑研究激活二阶零点(类DDN的网格)的模拟,在TCV等装置上的确发现二阶零点对热流显著的分散作用,这是一个很好的建议。
- OMP宽度在文中为1.5cm,可能是没有指明OMP位置。已经修改图一(显示OMP位置)
- 不同上游密度的宽度是不同的,选择哪个?
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- line 92:显示表达Bohm-Chodura在边界的设置条件。
- 是指靶板的鞘层的边界条件?
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- not cyro-pump, instead of "cryo-pump"
- accepted
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- Section 3.1脱靶发生后碳辐射降低,是由于辐射前向上游移动,其他原因可能是溅射出的碳原子数目减少,由于入射到靶板的D流降低,评估脱靶前移动和靶板溅射的相对影响。
- 统计靶板区域的总碳含量
- 计算靶板的溅射产额。(ZXL)
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- line 144:typo “border”,instead of “broader”
- accpeted
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- line 155-156,SFD D电离大概为SD的三倍,然而到达靶板的D流SFD似乎更低(从 Fig 3看出)。空间体复合的作用是什么?仅仅是更大的靶板区域?
- 如果查看对应于总的粒子流密度,我们认为应该查看平行的粒子流密度,(平行粒子流密度SFD是SD的很多倍,见图)。对于靶板侵蚀,主要影响的是垂直粒子流(考虑靶板角度影响),造成SFD靶板垂直粒子流更低的主导原因是SFD显著的流扩张(SFD vs. SD:120 vs. 4)。155-156讨论的总粒子为高电离区域的电离总数,非流密度。对于未将概念表示清楚造成误解,已经更正对总粒子源概念的声明。(或者??)
- 空间体复合的影响,仅仅是更大的靶板区域(wetted area)?辐射体积更大。
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- 5c(电离的靶板剖面),单位是"", 他是固定区域的电离率,例如是外靶板到divertor entrence的积分?或者是体电离速率("s{-1}.m{-3}")沿着靶板plotted?画这条线的意义是什么?
- 为固定区域的电离率(固定的体积是每一个网格)
- 尝试绘制空间电离率
- 绘制5c的目的,显示靶板的电离剖面???
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- 讨论力平衡似乎是无效的,甚至是不相关。证明碳的返流被抑制,显示SOL的碳流而不是力平衡。疑问:在在靶板附近杂质自身的速度仅仅通过摩擦力和热力——满足Bohm-Chodura,
- 已经去掉力平衡分析。通过对碳流以及背景等离子体流的分析,证明SFD抑制杂质返流。
- 造成抑制返流的原因是什么呢?是力平衡?还是较大的背景等离子体流导致的对D流的裹挟(Iliya 2019 PPCF)?
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- line 237-238,200MW。已知,CFETR的聚变功率为2GW,Psol的功率为200MW。然而,已知DT聚变粒子携带1/5的聚变功率,即为400GW,是否200MW的功率损失从芯部是CFETR预期的?
- 400GW?? 400MW
- Ye and Hang Si, et al. 均采用200MW(200MW为CFETR预期)
- 1/5是怎么回事?
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- line 242, Psol,而不是
- accepted