这里主要介绍的等离子体刻蚀机，主要是科研用的，非工厂用，但是原理都是基本相同的。作为设备工程师，这里分享的是按照我的理解。
首先说等离子体刻蚀机，从网上或者其他资料查到的介绍其结构，大概类似像下图这样的，
图1 等离子体刻蚀机结构
这样的结构图可以很快的了解整台设备有哪些配件，很方便入门。不过对于我来说，这还不能满足我的好奇心，这张图不能从逻辑结构上说明刻蚀机的核心原理。
按照我的理解，等离子体刻蚀机的核心是产生等离子体，设备的搭建要围绕怎么产生等离子体，下图是我理解的结构图：
图2 等离子体产生的顺序图
要产生等离子体，首先要有一套真空系统，能够把腔体里的大气抽干净，直至高真空，至少要到10 -4 Pa 量级，这样才能保证后面通入工艺气体后，没有过多的杂质气体参与。
然后，通入工艺气体，根据自己后期的工艺需求，选择工艺气体，比如氯基气体，氟基气体，或者惰性气体等。
最后，经过上面两步后，腔体里有了气体和相应的工艺压强，此时打开射频电源，就可以产生等离子体。
至此，如果腔体里放置了样品，就会在等离子体的作用（物理轰击或者化学反应）下，被刻蚀。
这就是等离子体刻蚀机的逻辑结构。然后再结合图1，就能更全面和深入的了解的等离子体刻蚀机了。
