偏差坐标空间
偏置坐标空间使您可以确定如何在空间上计算偏置方向矢量，以及如何影响将污垢效果最终应用到表面的方式。您可以选择以下选项：
世界空间：Octane将控制圆锥方向的输入偏差解释为世界空间中的矢量，其原点为0,0,0。
法线空间：控制圆锥方向的偏置矢量将从阴影点开始在法线空间中发生。
对象空间：圆锥方向的偏置矢量将在对象空间中计算，从对象的中心开始，该中心由Cinema 4D中设置的原点定义，您可以更改。
包含对象模式
此模式将确定在计算材料的污垢效果时要考虑哪些对象。选项包括：
全部：如果所有对象都落在采样参数内，则它们都会对表面产生污垢效果。
自我：只有应用了该材料的物体才会产生污垢效果。没有其他对象会起作用。
其他：只有其他物体会导致污垢效果。对象接收效果会不 作出贡献。
污垢表现
根据多个因素，“污垢”节点可能会对渲染时间产生明显影响。这里有一些要考虑的方面，以及解决这些问题的方法：
污垢是活的节点；计算取决于所应用几何的复杂性。
动画几何体将为每一帧更新“污垢”节点的结果；如果您不希望效果在逐帧之间变化，则将“污垢”节点连接到“漫反射”材质的“烘焙纹理”节点，然后使用烘焙相机。获得该结果后，可以用烘焙纹理替换“污垢”节点。这具有加速场景的附加好处。
每个材料限制一个“污垢”节点，您将获得更好的性能。
使用污垢发生器：简单而先进
通用污垢系统是您军械库中功能更广泛的发生器之一。您可以将灰尘直接用作材质明暗通道的输入，也可以将多个材质混合在一起的遮罩，将纹理混合在一起的遮罩，等等。该列表实际上是无限的，通过升级的通用污垢系统的能力可以通过图像纹理，过程着色器等来调制污垢。就是说，您可以根据需要使事情保持简单，也可以根据需要保持高级。下面我们提供了两个示例，一个简单，一个高级。
简单
高级
虽然比上一个示例复杂，但是如果仔细查看图像，您会发现“污垢”在2个地方使用。一个污垢节点被用作MixText节点中两个纹理之间的遮罩，另一个污垢节点被用作渐变节点的输入，该渐变节点被馈送到另一个MixText节点中，该节点最终将用于驱动漫反射通道在旨在控制第一材料的反射率的材料中。它读起来比实际要复杂。
