恒歌过滤器适用于GaN与SiC功率器件制程的腐蚀性气体过滤需求

在半导体制造工艺持续升级的背景下,第三代半导体材料对气体洁净度的要求已进入亚纳米级时代。恒歌IGS过滤器的创新设计恰好填补了这一技术空白——其多层金属纤维烧结滤芯通过梯度孔径分布,在保持99.999%过滤效率的同时,将压降控制在0.5psi以下,显著降低能耗损失。

针对GaN外延生长中的氯基腐蚀难题,过滤器内部采用哈氏合金C-276镀层技术,经加速腐蚀测试显示,在800℃含Cl₂环境中仍能保持结构完整性超过5000小时。更值得关注的是其智能监控系统的引入,通过嵌入式粒子传感器与压力变送器的协同,可实时追踪滤芯饱和状态,提前触发维护预警,将非计划停机时间缩短70%。

在SiC功率器件制造中,该方案已成功应用于刻蚀设备的工艺气路保护。实际生产数据表明,其组合式过滤单元使NF₃气体的颗粒污染水平稳定在0.1ppt以下,晶圆良率提升2.3个百分点。模块化的快拆设计更适应半导体工厂的敏捷运维需求,单个滤芯更换仅需15分钟,且完全杜绝二次污染风险。

随着宽禁带半导体向汽车电子、5G基站等领域加速渗透,这种兼具抗腐蚀性、高精度过滤与智能运维特征的解决方案,正在重新定义半导体特种气体净化的行业标准。未来通过物联网平台的深度整合,气体洁净控制有望实现从被动防护到预测性维护的跨越升级。

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